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光刻机是谁发明的 主要用途有哪些呢?

工业能力是一个国家国防实力和经济实力的基础,而光刻机是现代工业体系的关键部分,不过目前荷兰光刻机是最有名的,出口到全球各国,口碑很好。那光刻机是谁发明的?主要用途有哪些呢?一起来看看详细内容吧。

集成电路

1959年,世界上第一架晶体管计算机诞生,提出光刻工艺,仙童半导体研制世界第一个适用单结构硅晶片,1960年代,仙童提出CMOSIC制造工艺,第一台IC计算机IBM360,并且建立了世界上第一台2英寸集成电路生产线,美国GCA公司开发出光学图形发生器和分布重复精缩机。

光刻机是集成电路制造中最精密复杂、难度最高、价格最昂贵的设备,用于在芯片制造过程中的掩膜图形到硅衬底图形之间的转移。集成电路在制作过程中经历材料制备、掩膜、光刻、刻蚀、清洗、掺杂、机械研磨等多个工序,其中以光刻工序最为关键,因为它是整个集成电路产业制造工艺先进程度的重要指标。

目前,全球最顶尖的光刻机生产商是荷兰ASML、Nikon、Canon和上海微电子(SMEE),其中ASML实力最强,因此全球多数国家都愿意去这家公司进口光刻机,值得注意的是,美国正在阻挠中国进口荷兰光刻机,而颇有压力的荷兰政府也摇摆不定,目前,三方正在僵持。

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