光刻机的最新进展 业内人士这样透露

近年来，很多人都关心国内光刻机的发展现状，在华为等企业受到美国的制裁，而无法生产芯片后，光刻机的作用，可以说是非常明显的，那么国产光刻机的最新进展是怎样的？下文就来带大家了解一下。

光刻机又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。目前，世界上最先进的光刻机制造商是荷兰的ASML。

根据国内媒体AI财经社的报道，有业内人士透露，目前我国光刻机的发展水平，还停留在180nm制程，仍没有正式量产的90nm制程光刻机，落后国外20年水平。根据荷兰ASML的消息，其研发的光刻机已经突破1nm。